专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种零留膜的压印模板及压印光刻图形转移方法-CN200610105267.2无效
  • 段玉岗;王权岱;丁玉成;卢秉恒;刘红忠 - 西安交通大学
  • 2006-12-26 - 2007-07-11 - G03F1/00
  • 本发明公开了一种零留膜的压印模板及压印光刻图形转移方法,该方法包括压印模板制作、压印、曝光、脱模、显影等工艺步骤,得到基材上零压印底膜的光刻胶转移图形。本发明通过蒸镀、溅射、CVD、电镀等工艺在透明压印模板上图形的突出部位镀覆一层不透紫外光材料薄层,该不透光材料薄层在压印光刻工艺中位于压印底膜的上方,对底膜起到曝光掩模的作用,使底膜部分不发生交联固化。这样,在压印光刻脱模后底膜通过简单的显影工艺即可以得到没有底膜的光刻胶图形。采用该工艺可以避免常规压印光刻工艺中耗时的RIE去除底膜工艺步骤,使整个压印光刻工艺效率大大提高,同时降低了成本。本发明适用于图形特征尺寸为1mm以下压印光刻图形转移工艺
  • 一种零留膜压印模板光刻图形转移方法
  • [发明专利]压印装置、压印方法和制造产品的方法-CN201680027556.7在审
  • 佐藤浩司 - 佳能株式会社
  • 2016-05-09 - 2018-01-19 - H01L21/027
  • 本发明提供了一种生产率增加的压印装置。一种用于执行压印工艺从而通过使用模具在基板上形成压印材料图案的压印装置,包括检测器,其检测形成在基板上的压印材料图案;及控制器,其控制压印装置。控制器使得压印步骤和检测步骤能够并行执行,从而使得在压印步骤中通过压印工艺压印材料图案形成在基板上,并且在检测步骤中由检测器检测形成在与正在执行压印工艺的基板不同的基板上形成的压印材料图案。
  • 压印装置方法制造产品
  • [发明专利]一种纳米压印工艺的优化方法-CN201310552766.6在审
  • 王晶 - 无锡英普林纳米科技有限公司
  • 2013-11-08 - 2014-02-12 - G06F17/30
  • 本发明公开了一种纳米压印工艺的优化方法,包括如下步骤:(1)选取影响纳米压印工艺的因素,每个因素设置相应水平;(2)在设定的因素条件下进行纳米压印实验,记录实验结果;(3)利用多因素方差分析方法对实验结果进行分析;(4)根据分析结果选择最佳水平组合,确定最佳的纳米压印条件。本发明提供的纳米压印工艺的优化方法利用数理统计方法,简单易行,科学精确,能快速确定最佳的纳米压印条件,提高纳米压印的效率。
  • 一种纳米压印工艺优化方法
  • [实用新型]基于压印技术的印刷线路板制作用压印模具-CN202022663190.9有效
  • 周华梅;石新红;付海涛;陈祝华 - 上海美维科技有限公司
  • 2020-11-17 - 2021-09-28 - B29C43/36
  • 本实用新型提供一种基于压印技术的印刷线路板制作用压印模具,压印模具包括:基板;待压印图形层,形成在基板至少一侧,待压印图形层中制备有待压印图形;预设金属镀层,形成在待压印图形层远离基板的一面;防黏处理层,形成在预设金属镀层远离待压印图形层的一面。本实用新型利用改良型半加成工艺(mSAP)制备压印模具,对压印模具表面形成预设金属镀层并进行防黏处理形成防黏处理层,将压印技术应用到PCB板的制作中,经过PCB工艺制备金属线路,适于大尺寸PCB板,可以极大地提高复杂特征尺寸不一致的线路的均匀性,陡直度高,工艺稳定性好,能保证批量生产,容易满足模具在PCB压印过程中硬度、拉伸强度等要求。
  • 基于压印技术印刷线路板制作模具
  • [发明专利]干刻蚀基材形成蒙砂的方法、蒙砂基材和应用-CN202110274308.5有效
  • 唐文江;黄文;吴承晚 - 蓝思科技股份有限公司
  • 2021-03-15 - 2023-06-27 - C03C15/00
  • 本发明提供了一种干刻蚀基材形成蒙砂的方法、蒙砂基材和应用,涉及表面加工技术领域,包括:将改性紫外固化压印材料均匀涂布在清洁后的基材上,形成紫外固化压印材料层;将具有浮雕图形结构的压印模板对紫外固化压印材料层进行压印,并进行UV固化,使压印模板上的浮雕图形转印到紫外固化压印材料层上;采用干刻蚀工艺对紫外固化压印材料层和基材进行刻蚀,使微图形转移到基材上。本发明采用紫外固化层代替沉积硬掩模膜层及软模膜层,通过改进紫外固化压印材料和工艺条件,一次压印固化和一次反应离子刻蚀就可实现对不同材料的产品进行蒙砂处理,节省材料,减少工艺步骤,节约成本。
  • 刻蚀基材形成方法应用
  • [发明专利]一种压印模板及其制作方法、压印方法-CN201810005716.9有效
  • 张笑;谷新 - 京东方科技集团股份有限公司
  • 2018-01-03 - 2020-07-31 - G03F7/00
  • 本发明提供了一种压印模板及其制作方法、压印方法,涉及压印技术领域。本发明通过在压印母板的凹凸结构中的凸起部位上形成形状记忆层,使得在采用具有形状记忆层的压印模板进行压印时,可以将压印模板中凸起部位的形状记忆层贯穿压印胶,并与待压印结构中的图案化层直接接触,在将压印模板与压印处理后的待压印结构分离后,由于压印模板中凸起部位的形状记忆与图案化层直接接触,因此,无需再刻蚀图案化层上的多余压印胶,可简化工艺流程、降低工艺成本;同时,形状记忆层在压印过程中即使发生形变,也可通过加热恢复至原始形状,不会造成压印过程中压印模板的损坏
  • 一种压印模板及其制作方法方法
  • [发明专利]一种纳米压印模板的制造工艺-CN202211167700.0在审
  • 江子标;刘贺;李新 - 江苏铨力微电子有限公司
  • 2022-09-23 - 2022-12-06 - G03F7/00
  • 本申请涉及半导体的技术领域,尤其是涉及一种纳米压印模板的制造工艺,其包括以下步骤:S1:选材清洗,选择合适的圆片作为衬底,并对衬底进行清洗、干燥操作;S2:淀积薄膜,在圆片表面制备压印膜层,并测量压印膜层的厚度;S3:光刻图形,在压印膜层的表面上涂覆光刻胶,通过光刻工艺,将所需的图形以光刻胶为载体留在圆片上;S4:刻蚀工艺,将压印膜层通过深槽刻蚀机进行刻蚀,一直刻蚀到圆片表面上;S5:去胶操作,去除压印膜层上的光刻胶,使压印膜层上具有纳米压印图形。本申请具有降低现有制作纳米压印模板成本的效果。
  • 一种纳米压印模板制造工艺
  • [发明专利]一种纳米压印结构的加工方法-CN202110867526.X在审
  • 李其凡;史晓华 - 苏州光舵微纳科技股份有限公司
  • 2021-07-30 - 2021-11-30 - G03F7/00
  • 本发明涉及了一种纳米压印结构的加工方法,包括:步骤A:在基片表面涂覆一层纳米压印专用胶;步骤B:用目标图形尺寸的模板对所述纳米压印专用胶进行纳米压印制程,使所述目标图形尺寸复制转移在所述基片上面、获得图形掩膜,所述基片表面未被所述图形掩膜覆盖的区域形成压印底膜;步骤C:通过干法刻蚀工艺去除所述压印底膜,并形成所述基片表面的裸露区域;步骤D:将所述目标图形尺寸转移至所述基片上。通过上述设置,可解决目前纳米压印技术制备的芯片结构中压印底膜既影响后续刻蚀工艺、又影响后续剥离工艺导致的目标图形复制效果差或失真的问题。
  • 一种纳米压印结构加工方法

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